移置凸點(diǎn)形成技術(shù)，工藝簡(jiǎn)單，不需要昂貴設(shè)備，成品率商。采用移置凸點(diǎn)工三、Ｔ技術(shù)的最新發(fā)展ＡＢＴＡＢＬＳＩ最大特點(diǎn)是，可通過(guò)帶盤(pán)進(jìn)的行高效連續(xù)作業(yè)、自動(dòng)化批量生產(chǎn)。而且，ＬＳ芯片上的全部電極能同時(shí)對(duì)準(zhǔn)引線，進(jìn)行Ｉ藝，在問(wèn)距ｌｏｍ引線上形成凸點(diǎn)的技術(shù)已達(dá)Ｏｐ到實(shí)用階段。日本一些廠家曲直狀凸點(diǎn)結(jié)構(gòu)列于表ｌ２載帶技術(shù)．焊接特別適臺(tái)窄間距．多引線（０根以上）２０ＬＳＩ薄型（度小于ｌ超厚ｍｍ）安裝，穩(wěn)定性高，成本低。因此，近幾年來(lái)，發(fā)展極其迅速。尤其是美、日等國(guó)進(jìn)ｉ大量研究開(kāi)發(fā)工了ＴＡＢ的載帶按層斂可分為單層帶、二層帶干三層帶等三種。此外，還開(kāi)發(fā)出了雙金屬Ⅱ的載帶。由于單層帶只有一層Ｃｕ箔，機(jī)械強(qiáng)度差，一般不采用。二層帶由Ｃｕ箔和載帶薄膜制成二層載帶不使用牯結(jié)劑，設(shè)計(jì)自由，彎曲性能好。